自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，而没有去国家知识产权局进行登记，那十二条规定的保护期自登记日或首次商业利用日起计算如何理解？

更新时间：2018-10-05 17:57:51

问题描述：

根据《集成电路布图设计保护条例》第十二条规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。第八条规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。问题如下：布图设计仅投入商业利用，而没有去国家知识产权局进行登记，是否享有布图设计专有权？如果不享有，那十二条规定的保护期自登记日或首次商业利用日起计算如何理解？是否理解为可以把首次商业利用日等同于专利权里面的优先权基础？

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申请知识产权申请方法：
1、说明书、权利要求书，摘要。说明书是你的专利技术的详细说明，权利要求书概括你保护的技术方案的范围大小，摘要就是简要说明，并不需要作出实物。
图片也可以手绘，只要清楚即可，不需要按照制图标准画图。然后再到国家知识产权局网站上下载一份专利申请请求书表格，填好。
2、拿着这些材料去国家知识产权局专利局申请；或邮寄到国家知识产权局专利局受理处；或去国家知识产权局驻各地的代办处申请。
3、等着国家知识产权局专利局发的各种通知书，并答复审查意见通知书。没有问题就可以授权了。

2018-10-05 17:51:57

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知识产权使用许可是指知识产权许可方与知识产权被许可方，依法签定书面许可合同，由许可方授予被许可方按照约定使用知识产权的法律行为。主要方式有：
　　普通许可：是指许可人允许被许可人在规定的地域范围内使用在合同中所约定的知识产权内容，同时保留在该地域范围内许可人自已使用该项知识产权以及再与第三方就该项知识产权签订许可证合同的权利。
　　排他许可：是指许可方允许被许可方在规定的地域内独家实施其知识产权，而不再许可第三方在该地域内实施其知识产权，但仍保留许可方自已实施其知识产权的权利。
　　独占许可：是指许可方允许被许可方在规定的地域范围内，拥有独占该项知识产权的使用权，任何第三方也包括许可方自已在内，均无权使用该项知识产权。

2018-10-05 17:55:50

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1、发明专利在授权之前，国知局需要对其进行实质性审查。
2、实质审查即对该发明专利的新颖性、创造性、实用性等进行大量的文献检索，并指出申请文件中的缺陷，申请人需要根据审查意见进行审查意见的答复，若未答复审查意见或超出审查意见答复日期则该专利申请会被视为撤回。如果审查员接受并认可审查意见答复的内容，审查员会对该专利发出授予专利权通知书和办理登记手续通知书，缴纳办理登记手续通知书上面所列出的登记费、年费、印花税之后，即可获得专利证书。如果审查员不认可专利代理人所答复的审查意见，审查员会再次发出审查意见通知书或者发出驳回通知书。
3、发明专利的流程：向国知局递交专利申请--国知局受理（获得专利申请号）--审查员对专利进行初步审查--专利进行公开（申请后18个月）--实质性审查--授权公告（颁发专利证书）。

2018-10-05 17:57:51

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